ролкови двойки бутала

... микроелектронните процесори позволява точното управление на нитрирането в "четвърто агрегатно състояние", т.е. в плазма. Плазменото нитриране позволява изграждането на специални слоеве с висока възпроизводимост при съкратени времеви процеси. Процесът намира предпочитано приложение при слизащи и валцови двойки, като бутала и компоненти на предаване, както и при части, от които се изисква особена устойчивост на износване. ХАРТЕРЕЙ РИЙЗ разполага с инсталации, които позволяват плазмено нитриране на изключително големи детайли с минимално изкривяване чрез метода PulsPlasma.