EM TIC 3X - Система за гравиране с йонен лъч - Система за гравиране с йонен лъч Leica EM TIC 3X

Тройната йонно-лъчевата система Leica EM TIC 3X позволява създаването на срезове и плоски повърхности за сканираща електронна микроскопия (Scanning Electron Microscopy - SEM), микроструктурен анализ (EDS, WDS, Auger, EBSD) и AFM изследвания. С Leica EM TIC 3X можете да произвеждате висококачествени повърхности при стайна температура или при замразени проби от почти всякакъв материал, така че вътрешните структури да останат в максимално оригинално състояние.