Плазмена система за обработка на повърхности | Нано - Система за ниско налягане с плазма, Плазмена система за обработка на повърхности, Плазмен почистващ препарат

Плазмените системи от Diener electronic отдавна са се утвърдили в широк спектър от индустриални сектори. С ниско налягане плазмената система Nano можете да разчитате на съвременна и бъдеща технология за студена плазма във вакуум. Обемът на камерата от 18 до 24 литра на тази плазмена система предлага достатъчно пространство за обслужване на лабораторни и серийни производства. Плазмената обработка в ниско налягане е доказана техника за контролирано ултрафино почистване, подобряване на адхезията (активация и ецване) и нанасяне на тънки слоеве върху повърхностите на субстратите. Плазмата се генерира чрез прилагане на височестотен ток във вакуумната камера. В процеса, процесният газ, въведен там, се йонизира. Области на приложение: - Безвредно почистване на органични остатъци. - Активация преди боядисване, лепене, запечатване, ... - Ецване на PTFE, фоточувствителни материали, оксидни слоеве, ... - Суперхидрофобни и -хидрофилни покрития Размери (на маса): 560 мм x 600 - 860 мм x 600 мм (ШxВxД) Размери (самостоятелно): 600 мм x 1700 мм x 800 мм (ШxВxД) Материал на вакуумната камера: Неръждаема стомана, Алуминий, Силициев стъкло (UHP), Боросиликатно стъкло (HP) Размери на вакуумната камера: прибл. Ш 240 мм x В 240 мм x Д 400 - 420 мм; Ø 267 мм, Д 400 - 420 мм Обем на вакуумната камера: приблизително 18 - 24 литра Затваряне на вакуумната камера: Капак, люлееща се врата Газоснабдяване: Иглови вентили или контролери на масовия поток (MFC) Измерване на налягане: Пирани, Капацитетен манометър Генератор: 100 kHz; 80 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Електроди: Според изискванията на клиента Контроли: Полуавтоматичен, Ротационен превключвател, Основен компютър (Win.CE), Пълен компютър (Win.10 IoT) Захранване: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Вакуумна помпа: Капацитет: 16 m³/h