Плазмена система за повърхностна обработка | Пико - Система за ниско налягане с плазма, Плазмена система за повърхностна обработка, Плазмен почистващ препарат

Плазмените системи на Diener electronic отдавна са се утвърдили в различни индустриални области. С ниско налягане плазмената система Pico залагате на съвременната и бъдеща безопасна технология за студена плазма във вакуум. Обемът на камерата от 5 до 8 литра на тази плазмена система предлага достатъчно пространство за обслужване на лабораторни и серийни производства. Плазмената обработка при ниско налягане е доказана техника за контролирано фино почистване, подобряване на адхезията (активиране и ецване) и нанасяне на тънки слоеве върху повърхностите на субстратите. Плазмата се генерира чрез използване на височестотен ток във вакуумната камера. При това процесният газ, който се въвежда, се йонизира. Области на приложение: - Безвредно почистване на органични остатъци - Активиране преди боядисване, лепене, заливане и др. - Ецване на PTFE, фотолак, оксидни слоеве и др. - Супер-хидрофобни и хидрофилни покрития Размери (настолен уред): 310 - 560 мм x 330 - 860 мм x 420 - 600 мм (ШxВxД) Размери (подов уред): 600 мм x 1700 мм x 800 мм (ШxВxД) Материал на вакуумната камера: Неръждаема стомана, алуминий, кварцово стъкло (UHP), боросиликатно стъкло (HP) Размери на вакуумната камера: около Ш 160 мм x В 160 мм x Д 200 - 300 мм; Ø 130 мм, Д 200 - 320 мм Обем на вакуумната камера: около 5 - 8 литра Затваряне на вакуумната камера: капак, врата с панта Газоснабдяване: иглени вентили или контролери на масовия поток (MFCs) Генератор: 40 kHz; 100 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Налягане: Пирани, капацитивен манометър Електроди: по желание на клиента Управление: Полуавтоматично, ротационен превключвател, базов компютър (Win. CE), пълен компютър (Win. 10 IoT) Захранване: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Вакуумна помпа: всмукателна мощност мин. 6 м³/ч